E3-3D 三維定位鍍層測(cè)厚分析儀器是一款通用型能量色散型X射線熒光光譜儀（EDXRF)，專門用于鍍層厚度檢測(cè)；其核心部件采用美國(guó)進(jìn)口，軟件算法采用美國(guó)EDXRF前沿技術(shù)，儀器所用標(biāo)準(zhǔn)樣品均有第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)報(bào)告；精密度、準(zhǔn)確度、檢出限等技術(shù)參數(shù)全面超過國(guó)內(nèi)外同類儀器，特別針對(duì)大件異形不平整樣品，無需拆分，直接測(cè)試即可達(dá)到*的測(cè)試效果。 E3-3D 三維定位鍍層測(cè)厚分析儀器產(chǎn)品特點(diǎn)： ● 樣品蓋鑲嵌鉛板屏蔽X射線 ● 輻射標(biāo)志警示 ● 儀器經(jīng)第三方檢測(cè)，X射線劑量率*符合GB18871-2002《電離輻射防護(hù)與輻射源安全基本標(biāo)準(zhǔn)》 硬件技術(shù) ● X射線下照式，激光對(duì)焦可調(diào)樣品倉(cāng)，對(duì)于異形不平整樣品，無需拆分打磨，可直接測(cè)試 ● 模塊化準(zhǔn)直器，根據(jù)分析元素，配備不同材質(zhì)準(zhǔn)直器，從而降低準(zhǔn)直器對(duì)分析元素的影響，提高元素分辨率 ● zui小光斑0.2mm，可針對(duì)各種樣品中的小測(cè)試點(diǎn)*定位，避免材質(zhì)干擾，測(cè)量結(jié)果更準(zhǔn)確 ● 空氣動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì)，加速光管冷卻，有效降低儀器內(nèi)部溫度；靜音設(shè)計(jì) ● 電路系統(tǒng)符合EMC、FCC測(cè)試標(biāo)準(zhǔn) 軟件技術(shù) ● 分析元素：Na~U之間元素 ● 分析時(shí)間：90秒 ● 界面簡(jiǎn)潔，模塊化設(shè)計(jì)，功能清晰，易操作 ● 數(shù)據(jù)一鍵備份，一鍵還原、一鍵清理功能，保護(hù)用戶數(shù)據(jù)安全 ● 根據(jù)不同基體樣品，配備三種算法，增加樣品測(cè)試精準(zhǔn)度 ● 配備開放式分析模型功能，客戶可自行建立自己的工作模型。 產(chǎn)品規(guī)格： ●外形尺寸：360 mm x 600mm x 385 mm （長(zhǎng)x寬x高） ●樣品倉(cāng)尺寸：360mm×400mm x160（長(zhǎng)x寬x高，高度可定制） ●儀器重量：50kg ●供電電源：AC220V/ 50Hz ●zui大功率：330W ●工作溫度：15-30℃ ●相對(duì)濕度：≤85%，不結(jié)露 配件配置： 探測(cè)器 ● 類型：X123探測(cè)器（*高性能電致冷半導(dǎo)體探測(cè)器） ● Be窗厚度：1mil ● 晶體面積：25mm2 ● *分辨率：145eV ●信號(hào)處理系統(tǒng)：DP5 X射線管 ●電壓：0-50v ●zui大電流;2mA ●zui大功率:50W ●靶材：Mo ●Be窗厚度：0.2mm ●使用壽命：大于2w小時(shí) 高壓電源 ●輸出電壓：0-50Kv ●燈絲電流0-2mA ●zui大功率：50w ●紋波系數(shù)：0.1%（p-p值） ●8小時(shí)穩(wěn)定性：0.05% 攝像頭 ●焦距：微焦距 ●驅(qū)動(dòng):免驅(qū)動(dòng) ●像素：500萬像素 準(zhǔn)直器、濾光片 ●系統(tǒng)：快拆卸準(zhǔn)直器、濾光片系統(tǒng) ●材質(zhì)：多種材質(zhì)準(zhǔn)直器 ●光斑：光斑大小Φ0.2mm、Φ1.0mm、Φ2.0mm、Φ4.0mm可選 十字激光頭 ●光斑形狀：十字線 ●輸出波長(zhǎng)：紅光650nm ●光學(xué)透鏡：玻璃透鏡 ●尺寸：Φ10×30mm ●發(fā)散角度：0.1-2mrad ●工作電壓：DC 5V ●輸出功率：<5mW ●工作溫度：－10～50℃ 其它配件 ●開關(guān)電源：進(jìn)口高性能開關(guān)電源 ●散熱風(fēng)扇：進(jìn)口低噪聲、大風(fēng)量風(fēng)扇 |
點(diǎn)擊放大
在線客服1